据中国台湾媒体报道，半导体巨头台积电南京厂目前月产能已达成原定2万片目标，而之前依计划扩增南京厂产能，今年月产能已由1.5万片扩增至2万片，制程技术以12nm及16nm为主。
此前有消息称，台积电决定启动南京厂第2期扩建，并以28nm制程为主。对于这个消息，台积电表示，目前南京厂尚无进一步扩产具体计划。
台积电财报显示，台积电南京厂去年即转亏为盈，全年获利新台币12.89亿元（约合人民币 2.97 亿元）。随着产能规模扩大，今年前3季获利扩增至新台币91.29亿元（约合人民币21亿元）。
此前还有媒体报道称，为了保持领先，台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机，将会在2021年全年交付，不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时，明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。
目前，台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片，但在未来几个季度，该公司将增加N6（实际上将在2020年第四季度或2021年第一季度进入HVM）以及同样具有EUV层的N5P工艺。台积电对EUV工具的需求正在增加是因为其技术越来越复杂，更多地方需要使用极紫外光刻工具处理。台积电的N7+使用EUV来处理最多4层，以减少制造高度复杂的电路时多图案技术的使用。
