IT之家 3 月 8 日消息 上海新阳今日宣布通知布告：颁布了最新的 ASML-1400 光刻机有关进展。
经各方积极协商、运作，ASML-1400 光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技巧立异中间（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相干工作。公司采购的 ASML 干法光刻机设备顺利交付，对加快 193nmArF 干法光刻胶产品开辟进度有积极影响。
据介绍，上海新阳半导体材料股份有限公司自立项开辟 193nmArF 干法光刻胶的研发及家当化项目以来，委托购买了 ASML-1400 光刻机等核心设备，并于今日运抵国内。
▲ 图文无关
官方对该公司的影响及风险提示：
1、公司采购的 ASML 干法光刻机设备顺利交付，对加快 193nm ArF 干法光刻胶产品开辟进度有积极影响，有利于进一步晋升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司成长计谋，进步公司抗风险才能和可持续成长才能。
2、该光刻机尚须经由装机、调试等相干环节，若相干环节出现工作疏漏或掉误则存在造成所购买的光刻机投入应用的过程较长甚至无法投入应用的风险。
3、光刻胶研发项目技巧壁垒高、周期长、至家当化并最终实现发卖利润仍需一准时光，而公司购买的光刻机设备价格昂贵，其折旧及后续保护费用估计对公司的经营事迹存在必定影响。
IT之家提示，以下为官方通知布告：
