上海新阳又买了台二手ASML光刻机，可用于研发28nm高端光刻胶

上海新阳又买了台二手ASML光刻机，可用于研发28nm高端光刻胶

上海新阳(300236)今日通知布告，由上海芯刻微材料技巧有限义务公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

3月11日，芯刻微公司向盛吉盛付出10%首期货款购入该光刻机，残剩90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相干安装调试等工作。

上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技巧请求高、投资需求大年夜，公司为加快集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化过程，削减上市公司事迹压力，经由过程参股子公司芯刻微进行Ar湿法光刻胶的研发，并与协定各方承诺将来经由过程向上市公司进行股权让渡或技巧让渡等方法避免可能的同业竞争。

客岁8月份，上海新阳与芯刻微、上海超成材料科技有限公司签订了《增资及股权让渡协定》。增资及股权让渡完成后，上海新阳持有芯刻微 38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司进行ArF湿法光刻胶的研发。

上海新阳作为国内集成电路制造关键工艺材料供给商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将冲破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为成长目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技巧与产品的冲破。

经由过程子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技巧专家团队，为ArF湿法光刻胶项目标开辟供给了技巧保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技巧先辈性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步晋升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司成长计谋。

上海新阳表示，光刻胶产品在集成电路资估中技巧难度大年夜，质量请求最高，开辟周期长， 且核心技巧及原材料几乎被国外厂商所垄断。是以，存在着研发掉败和研发筹划滞后的风险。

此次购买的二手设备，重要用于Ar湿法光刻胶研发，此前采购设备用于干法光刻胶的研发。

1月5日，上海新阳通知布告称，自立项开辟193nm ArF干法光刻胶的研发及家当化项目以来，根据项目进度，筹划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。上周， 上海新阳曾宣布通知布告，公司自立项开辟193nm ArF干法光刻胶的研发及家当化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，设备已进入北方集成电路技巧立异中间(北京)有限公司的场地。

近期不少上市公司都在购买光刻机。2021年1月19日晚，晶瑞股份通知布告称，经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。3月3日晚，中芯国际宣布通知布告称，2021年2月1日，其与光刻机设备大年夜厂阿斯麦（ASML）签订了批量设备采购协定，协定的刻日从本来的2018年1月1日至2020年12月31日，延长为从2018年1月1日至2021年12月31日。根据此批量采购协定，订单总金额约12亿美元。此外英诺赛科本年也颁布购入光刻机设备。

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