中证网讯（记者 吴科任）上海新阳3月11日晚通知布告，近日，由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投标，成功中标购得ASML XT1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。后续公司将启动设备的运输及相干安装调试等工作。
尽管通知布告并未泄漏上述二手光刻机的价格，但可以参考的是，2020年9月，同处半导体材料范畴的晶瑞股份筹划斥资1102.5万美元购买ASML的光刻机设备。晶瑞股份后面披露的通知布告显示，该光刻机为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机。
这也不是上海新阳第一次购买ASML的光刻机。公司3月8日通知布告称，自立项开辟193nmArF干法光刻胶的研发及家当化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。该光刻机原筹划2020岁尾前运抵国内，但因为公司与光刻机供给商、合作方沟通调和设备运输与安装等细节，致使设备没能在规准时光内运达，估计于2021年3月底进步入合作方现场。
上海新阳表示，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供给商，将冲破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为成长目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技巧与产品的冲破。
并且，经由过程子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技巧专家团队，为ArF湿法光刻胶项目标开辟供给了技巧保障。现采购ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技巧先辈性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步晋升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司成长计谋，进步公司抗风险才能和可持续成长才能。
上海新阳强调，光刻胶产品在集成电路资估中技巧难度大年夜，质量请求最高，开辟周期长，且核心技巧及原材料几乎被国外厂商所垄断。是以，存在着研发掉败和研发筹划滞后的风险。
通知布告显示，3月11日，芯刻微向盛吉盛付出10%首期货款购入该光刻机，残剩款项在6个月内付清。
